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制冷循環(huán)器

簡要描述：LX-25制冷循環(huán)器使用范圍：對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。

產品型號：LX-25
廠商性質：生產廠家
更新時間：2023-11-17
訪問量：4332

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低溫冷卻循環(huán)器泵

低溫恒溫槽制冷循環(huán)器低溫制冷循環(huán)器超低溫制冷循環(huán)器

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品牌	冠特制冷

LX-25制冷循環(huán)器參數(shù)：

型號		LX-10	LX-25	LX-40	LX-70	LX-10A	LX-145	LX-20A
溫度范圍		-25.0～40.0℃
溫控精度		±1℃
制冷量	20℃	1000W	2500W	4000W	7000W	10000W	14500W	20000W
	0℃	700W	1500W	2400W	4000W	7500W	10000W	15500W
	-20℃	300W	550W	800W	1500W	3500W	5000W	7300W
泵流量		20L/min 1.5bar			50L/min 1.8bar
安全保護		具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能
冷卻方式		水冷或風冷
溫度探頭		PT100 控制外圍設備
加注冷媒		R404A
整機重量		75kg	90kg	110kg	135kg	165kg	195kg	240kg
電源		AC 220/380V 50/60HZ

LX-25制冷循環(huán)器使用范圍：對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。

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